1樓：匿名使用者
化學氣相沉積是一種製備材料的氣相生長方法，它是把一種或幾種含有構成薄膜元素的化合物、單質氣體通入放置有基材的反應室，藉助空間氣相化學反應在基體表面上沉。
物理氣相沉積法和化學氣相沉積法的優劣勢有哪些
2樓：網友
化學氣相沉積過程中有化學反應，多種材料相互反應，生成新的的材料。
物理氣相沉積中沒有化學反應，材料只是形態有改變。
物理氣相沉積技術工藝過程簡單，對環境改善，無汙染，耗材少，成膜均勻緻密，與基體的結合力強。缺點膜一基結合力弱，鍍膜不耐磨， 並有方 向性。
化學雜質難以去除。優點可造金屬膜、非金屬膜，又可按要求製造多成分的合金膜，成膜速度快，膜的繞射性好。
實驗室用過的二手化學氣象沉積金剛石的裝置
3樓：驚雷雨中
藥檢企業一般有，原子吸收，電子天平，氣相液相，溶出儀，合成，制粒等^_^
請問 中國國內有沒有做cvd（化學氣象沉積）裝置的公司 能否介紹幾個有實力的
4樓：網友
上海有一家長望氣象儀器公司，你可以問問。
化學氣相沉積的特點
5樓：手機使用者
1)在中溫或高溫下，通過氣態的初始化合物之間的氣相化學反應而形成固體物質沉積在基體上。
2)可以在常壓或者真空條件下(負壓「進行沉積、通常真空沉積膜層質量較好)。
3)採用等離子和雷射輔助技術可以顯著地促進化學反應，使沉積可在較低的溫度下進行。
4)塗層的化學成分可以隨氣相組成的改變而變化，從而獲得梯度沉積物或者得到混合鍍層。
5)可以控制塗層的密度和塗層純度。
6)繞鍍件好。可在複雜形狀的基體上以及顆粒材料上鍍膜。適合塗覆各種複雜形狀的工件。由於它的繞鍍效能好，所以可塗覆帶有槽、溝、孔，甚至是盲孔的工件。
7)沉積層通常具有柱狀晶體結構，不耐彎曲，但可通過各種技術對化學反應進行氣相擾動，以改善其結構。
8)可以通過各種反應形成多種金屬、合金、陶瓷和化合物塗層。
金屬氧化物化學氣相沉積危險性大不大
6樓：匿名使用者
1,首先你需要一臺化學氣相沉積機臺，常見的有牛津的pecvd幾臺。2,藥品的話主要是一切特殊氣體，如矽烷，氮氣，氨氣，氧氣，笑氣，氟化碳氣體等。3,試驗步驟建議使用田口的doe實驗法，這樣你可以省去一些不必要的試驗。
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